全書共分10章，系統(tǒng)地闡述了真空鍍膜技術的基本概念和基礎理論、各種薄膜制備技術、設備及工藝、真空卷繞鍍膜技術、ITO導電玻璃真空鍍膜工藝，尤其重點介紹了一些近年來新出現(xiàn)的鍍膜方法與技術，如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等；還詳細介紹了薄膜沉積及膜厚的監(jiān)控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術等方面的內容。
本書具有很強的實用性，適合于真空鍍膜行業(yè)、薄膜與表面應用、材料工程、應用物理以及與真空鍍膜技術有關的行業(yè)從事研究、設計、設備生產操作與維護的技術人員，也適用與真空鍍膜技術相關的實驗研究人員和學生，還可用作大專院校相關專業(yè)師生的教材及參考書。
1 薄膜與表面技術基礎理論
1.1 概述
1.2 固體表面介紹
1.2.1 固體材料
1.2.2 固體表面與界面的基本概念
1.2.3 固體表面與界面的區(qū)別
1.3 表面晶體學
1.3.1 金屬薄膜的晶體結構
1.3.2 理想的表面結構
1.3.3 表面與體內的差異
1.3.4 清潔表面結構
1.3.5 實際表面結構
1.4 表面特征(熱)力學
1.4.1 表面力
1.4.2 表面張力與表面自由能
1.4.3 表面擴散
1.5 表面電子學
1.5.1 金屬薄膜中的電遷移現(xiàn)象
1.5.2 增強薄膜抗電遷移能力的措施
1.6 界面與薄膜附著
1.6.1 界面層
1.6.2 附著及附著力
1.6.3 固體材料表面能對附著的影響
1.6.4 表面、界面和薄膜的應力
1.6.5 增強薄膜附著力的方法
1.7 金屬表面的腐蝕
1.7.1 電化學腐蝕
1.7.2 金屬的鈍化
1.7.3 腐蝕
1.7.4 局部腐蝕
2 真空蒸發(fā)鍍膜
2.1 概述
2.2 真空蒸發(fā)鍍膜原理
2.2.1 真空蒸發(fā)鍍膜的物理過程
2.2.2 蒸發(fā)過程中的真空條件
2.2.3 鍍膜過程中的蒸發(fā)條件
2.2.4 殘余氣體對膜層的影響
2.2.5 蒸氣粒子在基片上的沉積
2.3 蒸發(fā)源
2.3.1 電阻加熱式蒸發(fā)源
2.3.2 電子槍加熱蒸發(fā)源
2.3.3 感應加熱式蒸發(fā)源
2.3.4 空心熱陰極電子束蒸發(fā)源
2.3.5 激光加熱蒸發(fā)源
2.3.6 電弧加熱蒸發(fā)源
2.4 特殊蒸鍍技術
2.4.1 閃蒸蒸鍍法
2.4.2 多蒸發(fā)源蒸鍍法
2.4.3 反應蒸鍍法
2.4.4 三溫度蒸鍍法
3 真空濺射鍍膜
3.1 濺射鍍膜原理
……
4 真空離子鍍膜
5 真空卷繞鍍膜
6 化學氣相沉積CVD技術
7 離子注入與離子輔助沉積技術
8 ITO導電玻璃鍍膜工藝
9 薄膜工的測量與監(jiān)控
10 表面與薄膜分析檢測技術
參考文獻
1 薄膜與表面技術基礎理論
1.1 概述
對固體材料而言，薄膜與表面技術實施的主要目的是以經濟、有效的方法改變材料表面及近表面區(qū)的形態(tài)、化學成分和組織結構，使材料表面獲得新的復合性能，以新型的功能實現(xiàn)新的工程應用。通過表面與薄膜技術與工程的優(yōu)化設計與實施，可以達到下列目的：
(1)提高材料抵御環(huán)境的能力。
(2)賦予材料表面具有新的機械功能、裝飾功能和特殊功能(包括聲、電、光、磁及其轉換和各種特殊的物理、化學性能)。
(3)弄清各類固體表面的失效機理和各種特殊的性能要求，實施特定的表面處理工藝來制備具有優(yōu)異性能的構件、零部件和元器件等產品。
為達到上述目的，主要通過使用各種先進的涂鍍技術，在材料的表面加上各種涂鍍層。如涂層技術中的電鍍、化學鍍、涂敷、熱噴涂、熱浸鍍、各種物理氣相沉積、化學氣相沉積、分子束外延、離子束合成等技術。另外，也采用各種表面改性技術及機械、物理、化學等方法使材料表面的形貌、化學成分、相組成、微觀結構、缺陷狀態(tài)、應力狀態(tài)得到改變，其技術主要有表面熱處理、噴丸強化、等離子體擴滲處理、三束(激光束、電子束、離子束)改性處理等。
……
