大類學(xué)科:計(jì)算機(jī)科學(xué) 中科院分區(qū) 4區(qū)
JCR學(xué)科:IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY JCR分區(qū) Q4
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Journal Of Imaging Science And Technology是計(jì)算機(jī)科學(xué)領(lǐng)域的一本優(yōu)秀期刊。由Society for Imaging Science and Technology出版社出版。該期刊主要發(fā)表計(jì)算機(jī)科學(xué)領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1992年,該期刊主要刊載工程技術(shù)-成像科學(xué)與照相技術(shù)及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進(jìn)展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進(jìn)展,更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標(biāo)準(zhǔn),確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價(jià)值。此外,該刊同時(shí)被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,并被劃分為中科院SCI4區(qū)期刊,它始終堅(jiān)持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價(jià)值的研究成果,不斷推動(dòng)計(jì)算機(jī)科學(xué)領(lǐng)域的進(jìn)步。
同時(shí),我們注重來(lái)稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領(lǐng)域的相關(guān)性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡(jiǎn)潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 12周,或約稿 。若您對(duì)于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動(dòng)與期刊主編取得聯(lián)系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據(jù)您的研究?jī)?nèi)容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實(shí)現(xiàn)學(xué)術(shù)成果的順利發(fā)表。
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計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) | IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY 成像科學(xué)與照相技術(shù) | 4區(qū) | 否 | 否 |
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工程技術(shù) | 4區(qū) | IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY 成像科學(xué)與照相技術(shù) | 4區(qū) | 否 | 否 |
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計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) | IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY 成像科學(xué)與照相技術(shù) | 4區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 34 / 36 |
6.9% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 34 / 36 |
6.94% |
學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Chemistry 小類:General Chemistry | Q3 | 261 / 408 |
36% |
大類:Chemistry 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 198 / 284 |
30% |
大類:Chemistry 小類:Computer Science Applications | Q3 | 581 / 817 |
28% |
大類:Chemistry 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 160 / 224 |
28% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發(fā)文量 | 25 | 32 | 54 | 50 | 45 | 60 | 56 | 57 | 66 | 65 |
國(guó)家/地區(qū) | 數(shù)量 |
CHINA MAINLAND | 41 |
USA | 30 |
South Korea | 25 |
Japan | 22 |
Taiwan | 21 |
England | 10 |
Canada | 4 |
GERMANY (FED REP GER) | 4 |
Norway | 4 |
Switzerland | 4 |
機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
CHIBA UNIVERSITY | 12 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 9 |
ROCHESTER INSTITUTE OF TECHNOLOGY | 8 |
NANJING UNIVERSITY OF AERONAUTICS & ASTRONAUTICS | 5 |
NATIONAL FORMOSA UNIVERSITY | 5 |
NATIONAL ILAN UNIVERSITY | 5 |
RICOH COMPANY, LTD. | 5 |
NORWEGIAN UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY (NTNU) | 4 |
CHUNGNAM NATIONAL UNIVERSITY | 3 |
HARVARD UNIVERSITY | 3 |
文章名稱 | 引用次數(shù) |
Improved Finger-Vein Pattern Method Using Wavelet-based for Real-Time Personal Identification System | 8 |
Sketch-Based Slice Interpretative Visualization for Stratigraphic Data | 3 |
Multi-Language Handwritten Digits Recognition based on Novel Structural Features | 3 |
Remote Sensing Image Quality Assessment based on the Ratio of Spatial Feature Weighted Mutual Information | 2 |
Balancing People Re-Identification Data for Deep Parts Similarity Learning | 2 |
Impact of Setting Margin on Margin Setting Algorithm and Support Vector Machine | 2 |
Demosaicing of Periodic and Random Color Filter Arrays by Linear Anisotropic Diffusion | 2 |
A Database with Reference for Image Dehazing Evaluation | 2 |
Multi-model Ensemble Forecast of PM2.5 Concentration Based on the Improved Wavelet Neural Networks | 2 |
Development of Smart Helmet for Monitoring Construction Resources Based on Image Matching Method | 1 |
SCIE
影響因子 3.7
CiteScore 6.4
SCIE
影響因子 4.5
CiteScore 10
SCIE
影響因子 3.8
CiteScore 6.7
SCIE
影響因子 5.3
CiteScore 9.3
SCIE
影響因子 1.7
CiteScore 3.4
SCIE
CiteScore 5.6
SCIE
影響因子 7.7
CiteScore 20.9
SCIE
影響因子 3.9
CiteScore 7.3
SCIE
影響因子 5.3
CiteScore 10.3
SCIE
影響因子 3
CiteScore 7.7
若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:I S & T - SOC IMAGING SCIENCE TECHNOLOGY, 7003 KILWORTH LANE, SPRINGFIELD, USA, VA, 22151。